We werken aan het herstellen van de Unionpedia-app in de Google Play Store
UitgaandeInkomende
🌟We hebben ons ontwerp vereenvoudigd voor betere navigatie!
Instagram Facebook X LinkedIn

Chemical vapor deposition

Index Chemical vapor deposition

Plasma (paars) laat “nano” buisjes, in een laboratoriumopstelling, groeien. Chemical vapor deposition, afkorting CVD (letterlijk vertaald “chemische dampdepositie”) is een chemisch opdampproces waarbij een thin film (dunne laag materiaal) op een substraat (ondergrond) wordt aangebracht.

Inhoudsopgave

  1. 16 relaties: Chemisch evenwicht, Druk (grootheid), Enthalpie, Geïntegreerde schakeling, Gesloten systeem, Helmholtzenergie, Inhoud (volume), Plasma (aggregatietoestand), Plasma-enhanced chemical vapor deposition, Robert Bunsen, Substraat (materiaalkunde), Thermodynamica, Thin film, Verblijftijd, Vrije energie, Zonnecel.

  2. Coating

Chemisch evenwicht

Flessen gevuld met stikstofdioxide (links) en distikstoftetraoxide (rechts). De lichtbruine kleur in de rechtse fles is afkomstig van een kleine hoeveelheid stikstofdioxide, hetgeen de dynamische evenwichtstoestand van de dimerisatie illustreert. Chemisch evenwicht is een fundamenteel chemisch-fysisch concept dat stelt dat tijdens een chemische reactie de concentraties van zowel reagentia als reactieproducten niet meer veranderen als functie van de tijd.

Bekijken Chemical vapor deposition en Chemisch evenwicht

Druk (grootheid)

Druk; de drukkracht per oppervlakte waar het op werkt. psi In de natuurkunde is druk de drukkracht per oppervlakte-eenheid.

Bekijken Chemical vapor deposition en Druk (grootheid)

Enthalpie

Enthalpie, aangeduid met het symbool H, is een grootheid uit de thermodynamica.

Bekijken Chemical vapor deposition en Enthalpie

Geïntegreerde schakeling

Hybride schakeling uit 1966 Loewe 3NF (1926) als voorloper van de IC Een oud geïntegreerd circuit in een metalen behuizing (opengezaagd) (1984) DIP-onderdeel Een geïntegreerde schakeling (van het Engelse integrated circuit, IC) oftewel een monolithische geïntegreerde schakeling is een samenstel van verschillende elektronische componenten (zoals transistors, weerstanden en condensatoren) op een enkel stuk halfgeleidermateriaal.

Bekijken Chemical vapor deposition en Geïntegreerde schakeling

Gesloten systeem

Een gesloten systeem is een systeem dat weinig of geen interactie met de omgeving heeft of dat minder interactie heeft dan vergelijkbare systemen; het tegengestelde is een open systeem.

Bekijken Chemical vapor deposition en Gesloten systeem

Helmholtzenergie

De helmholtzenergie, helmholtz vrije energie of helmholtzfunctie A (of F) is een toestandsfunctie van een systeem gedefinieerd door met.

Bekijken Chemical vapor deposition en Helmholtzenergie

Inhoud (volume)

Bepaling van de inhoud van een onregelmatig voorwerp door waterverplaatsing De inhoud of het volume van een voorwerp (lichaam) is de grootte van het gebied dat door dit voorwerp wordt ingenomen in de driedimensionale ruimte.

Bekijken Chemical vapor deposition en Inhoud (volume)

Plasma (aggregatietoestand)

plasmalamp In de natuurkunde wordt onder plasma een fase verstaan waarin de deeltjes van een gasvormige stof enigszins geïoniseerd zijn.

Bekijken Chemical vapor deposition en Plasma (aggregatietoestand)

Plasma-enhanced chemical vapor deposition

Een DC-PECVD systeem in actie Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of kortweg PECVD is de aanduiding van het proces, waarmee met behulp van een plasma een dunne laag op een substraat of basismateriaal wordt aangebracht bij relatief lagere temperatuur.

Bekijken Chemical vapor deposition en Plasma-enhanced chemical vapor deposition

Robert Bunsen

Robert Wilhelm Bunsen (Göttingen, 31 maart 1811 – Heidelberg, 17 augustus 1899) was een Duits chemicus die vooral bekend is door het verbeteren van de naar hem vernoemde bunsenbrander van Michael Faraday.

Bekijken Chemical vapor deposition en Robert Bunsen

Substraat (materiaalkunde)

Multilaag thin film bovenop een substraat van glas. Substraat is een term die in de materiaalkunde en techniek wordt gebruikt om het ondermateriaal te beschrijven waarop een bewerking wordt uitgevoerd.

Bekijken Chemical vapor deposition en Substraat (materiaalkunde)

Thermodynamica

Thermodynamica (Oudgrieks thermos (θερμός), warm, en dunamis (δύναμις), kracht), of warmteleer is het onderdeel van de natuurkunde dat de interacties bestudeert tussen grote verzamelingen van deeltjes op een macroscopisch niveau.

Bekijken Chemical vapor deposition en Thermodynamica

Thin film

Afbeelding vanuit de rasterelektronenmicroscoop (SEM), van twee dunne metaallagen over elkaar, van elk tientallen nanometers dik. Een thin film, dunne laag of dunne film is een extreem dunne laag materiaal; variërend van fracties van een nanometer tot enkele micrometers dik.

Bekijken Chemical vapor deposition en Thin film

Verblijftijd

De verblijftijd is in de procestechniek de gemiddelde tijd die een deeltje in een systeem doorbrengt.

Bekijken Chemical vapor deposition en Verblijftijd

Vrije energie

Bij de omzetting van energie in mechanische arbeid gaat er altijd energie "verloren" in de vorm van warmte (b.v. als gevolg van wrijving).

Bekijken Chemical vapor deposition en Vrije energie

Zonnecel

Zonnecellen als energievoorziening op betonning Een enkele zonnecel Een zonnecel is een elektrische cel die lichtenergie omzet in bruikbare elektrische energie.

Bekijken Chemical vapor deposition en Zonnecel

Zie ook

Coating

Ook bekend als CVD-proces.