Inhoudsopgave
19 relaties: Aluminium, Antireflectiecoating, Eenrichtingsspiegel, Fabricageproces halfgeleider, Gloei-ontlading, Head crash, Ionisatiesputterpomp, Lamella (materiaalkunde), Materiaalkunde, Microscopie, Microstructuur, Oppervlaktebehandeling, Physical vapor deposition, Plasma-enhanced chemical vapor deposition, Plasma-etsen, Ruimteverwering, Substraat (materiaalkunde), Thin film, Vacuümtechniek.
Aluminium
Aluminium is een scheikundig element met symbool Al en atoomnummer 13.
Bekijken Sputteren en Aluminium
Antireflectiecoating
Niet-ontspiegeld glas (boven), en een glas met antireflectiecoating. Let op de getinte reflectie van het gecoate glas. Antireflectiecoating of AR-coating is een standaardtype optisch filter in de vorm van een coating die wordt aangebracht op optische componenten, (zoals lenzen, brillenglazen, objectieven, etc.) om reflectie tegen te gaan.
Bekijken Sputteren en Antireflectiecoating
Eenrichtingsspiegel
Onder een eenrichtingsspiegel (ook wel eenwegspiegel, halfdoorlatende spiegel, halfdoorlaatbare spiegel, confrontatiespiegel, venetiaanse spiegel of spionspiegel genoemd) verstaat men een optische component (zoals een glasplaat) die het opvallende licht aan de ene kant doorlaat en aan de andere kant reflecteert.
Bekijken Sputteren en Eenrichtingsspiegel
Fabricageproces halfgeleider
Het fabricageproces van een halfgeleidermateriaal (wafer) is een integraal onderdeel van het maken van halfgeleidercomponenten en bestaat uit twee opeenvolgende procesdelen.
Bekijken Sputteren en Fabricageproces halfgeleider
Gloei-ontlading
NE-2 type neonlamp brandend op wisselspanning NE-34 type lamp Een gloei-ontlading is een plasma dat gevormd wordt wanneer een elektrische stroom door een onder lage druk staand gas wordt geleid.
Bekijken Sputteren en Gloei-ontlading
Head crash
Een head crash bij een modern harde schijf. Kenmerkend is het cirkelpatroon op de schijf. Een head crash is een beschadiging aan een harde schijf, die optreedt indien de magneetkop in aanraking komt met de roterende schijf, wat vaak resulteert in permanente en onherstelbare schade aan het oppervlak van de schijf.
Bekijken Sputteren en Head crash
Ionisatiesputterpomp
Een ionisatiesputterpomp of ionengetterpomp is een type vacuümpomp die gebruik maakt van het sputteren van een metalen gasbinder (Engels: getter).
Bekijken Sputteren en Ionisatiesputterpomp
Lamella (materiaalkunde)
korrels Verschillende laagjes (lamellae) folie over elkaar in een DOVID Lamellae (enkelvoud lamella) of lamellen zijn dunne materiaal-lagen naast of over elkaar, die zichtbaar zijn voor het blote oog of onder een microscoop.
Bekijken Sputteren en Lamella (materiaalkunde)
Materiaalkunde
karakterisering" in het midden halfgeleiders: n-type (boven) en p-type (onder). Materiaalkunde is een interdisciplinair natuurwetenschappelijk vakgebied, dat de samenstelling en structuur van materialen bestudeert, en hun daaruit voortvloeiende materiaaleigenschappen.
Bekijken Sputteren en Materiaalkunde
Microscopie
gepolariseerde lichtmicroscoop. Microscopie, oppervlakteanalyse of oppervlaktekarakterisering is een categorie binnen de materiaalkarakterisering, die de oppervlakte- of grenslaagstructuur van een materiaal onderzoeken en in kaart brengen.
Bekijken Sputteren en Microscopie
Microstructuur
O, bekeken met de rasterelektronenmicroscoop De microstructuur van een te onderzoeken materiaal wordt zichtbaar bij bestudering onder een microscoop.
Bekijken Sputteren en Microstructuur
Oppervlaktebehandeling
Een oppervlaktebehandeling of coating is het aanbrengen van een deklaag op een substraat (ondergrond).
Bekijken Sputteren en Oppervlaktebehandeling
Physical vapor deposition
IJskristalafzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces Physical vapor deposition, afkorting PVD, is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting over een substraat.
Bekijken Sputteren en Physical vapor deposition
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Een DC-PECVD systeem in actie Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of kortweg PECVD is de aanduiding van het proces, waarmee met behulp van een plasma een dunne laag op een substraat of basismateriaal wordt aangebracht bij relatief lagere temperatuur.
Bekijken Sputteren en Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Plasma-etsen
Plasma-etsen, ook wel droog etsen genoemd, is het proces waarmee met behulp van een plasma een deel van de bovenste laag van een substraat of basismateriaal wordt verwijderd bij relatief lagere temperatuur.
Bekijken Sputteren en Plasma-etsen
Ruimteverwering
Verschillende processen die tot ruimteverwering gerekend worden. Verwering in de ruimte of ruimteverwering is een naam voor een aantal processen die in de ruimte op voorwerpen werken.
Bekijken Sputteren en Ruimteverwering
Substraat (materiaalkunde)
Multilaag thin film bovenop een substraat van glas. Substraat is een term die in de materiaalkunde en techniek wordt gebruikt om het ondermateriaal te beschrijven waarop een bewerking wordt uitgevoerd.
Bekijken Sputteren en Substraat (materiaalkunde)
Thin film
Afbeelding vanuit de rasterelektronenmicroscoop (SEM), van twee dunne metaallagen over elkaar, van elk tientallen nanometers dik. Een thin film, dunne laag of dunne film is een extreem dunne laag materiaal; variërend van fracties van een nanometer tot enkele micrometers dik.
Bekijken Sputteren en Thin film
Vacuümtechniek
Vacuümtechniek omvat alle technische middelen die toegepast worden om binnen een bepaalde ruimte de gasdruk aanzienlijk te verlagen: het teweegbrengen van een vacuüm.
Bekijken Sputteren en Vacuümtechniek
Ook bekend als Sputterdepositie.